X線分析最前線 改訂
内容
目次
序文にかえて 監修のことば 総論 1.新たな発展期を迎えたX線分析 合志陽一 2.X線分析の特徴と使い分け―なぜX線分析を使うのか― 西勝英雄 方法論 3.全反射蛍光X線分析 谷口一雄 4.蛍光X線の干渉現象 佐々木裕次 5.X線回折分析 中村利廣 6.イオン励起X線分析(PIXE) 宇田応之・小谷敏也 7.放射光を光源とするX線分析 早川慎二郎 8.装置から見たX線分析の最近の進歩 新井智也 応用編 9.半導体材料とX線分析 藥師寺健次 10.金属・無機材料とX線分析 木村正雄 11.有機・高分子材料とX線分析 石谷炯・北野幸重・中山陽一 12.カラーラウエ法による薄膜の構造解析 堀内俊寿 13.先進複合材料とX線分析 佐藤公隆 14.非破壊の特徴を生かした文化財分析 田口勇 15.斜入射X線分析による新しい薄膜評価技術 桜井健次 X線分析100年略年表 執筆者略歴 索引
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