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Review超高真空技術の新展開～数式による解析から真空回路・分子流ネットワークへ～
吉村 長光
著
発行年月 |
2017年04月 |
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言語 |
日本語 |
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媒体 |
冊子 |
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ページ数／巻数 |
2p,6p,6,318p |
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大きさ |
26cm |
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ジャンル |
和書／理工学／機械工学／流体工学 |
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ISBN |
9784860434793 |
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商品コード |
1024528911 |
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NDC分類 |
534.93 |
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本の性格 |
実務向け |
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新刊案内掲載月 |
2017年06月2週 |
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商品URL
| https://kw.maruzen.co.jp/ims/itemDetail.html?itmCd=1024528911 |
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著者紹介
吉村 長光（著者）：大阪府立大学工学部電子工学科卒業。工学博士、技術士(応用理学部門)。2000年日本電子(株)を退職。長年にわたって日本真空学会とアメリカ真空学会の会員として、論文発表を行った。
内容
超高真空技術の展開を様々な論文をもとに解説する。「表面による残留ガスの収着と表面からのガスの脱離」「ガス放出量や透過係数などのデータ」「分子流ネットワーク解析」などを収録。
