現代表面科学シリーズ<4> 表面新物質創製
内容
目次
第1章 欠陥制御エピタキシャル成長技術による表面物質創製(Si表面上Ge歪エピタキシャル成長によるナノアイランド形成 高規則化刃状転位ネットワーク形成による均一歪Si1-XGeX・Ge層の創製 ほか) 第2章 走査型プローブ顕微鏡による表面物質創製(原子操作による表面物質創製 原子操作による導電性分子デバイス) 第3章 自己組織化によるナノワイヤ、ナノドット形成(VLS法によるナノワイヤ成長 シリコン基板上ナノワイヤのヘテロ構造、3次元構造 ほか) 第4章 表面を利用した炭素系ナノ材料の創製(基板表面上のグラフェンの創製 表面構造を利用したカーボンナノチューブの配列制御)