シリコンウェハーからフォトレジスト、ＣＭＰ研磨剤、ＣＶＤガス、洗浄剤、実装材料まで多岐にわたる半導体製造用の材料・ケミカルスの技術動向、要求特性、将来展望などの最新情報を提供する。(2006年9月刊行）
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